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中国光刻机专利: 遥遥领先于国际水平　　光刻机是半导体工业中不可或缺的关键设备，其主要作用是将芯片设计图案转移到硅片上，从而实现制造出可用于电子设备的微小电路。近年来，由于国内相关技术的不断开展和完善
BWIN必赢智慧中国光刻机专利: 遥遥领先于国际水平　　光刻机是半导体工业中不可或缺的关键设备，其主要作用是将芯片设计图案转移到硅片上，从而实现制造出可用于电子设备的微小电路。近年来，由于国内相关技术的不断开展和完善栏目，汇聚了中国光刻机专利: 遥遥领先于国际水平　　光刻机是半导体工业中不可或缺的关键设备，其主要作用是将芯片设计图案转移到硅片上，从而实现制造出可用于电子设备的微小电路。近年来，由于国内相关技术的不断开展和完善相关的内容知识，便于用户查看、以及在此页面可免费申请试用，BWIN必赢智慧专利查询检索与分析服务，1.4亿数据后台支持，多种检索方式，解决您的专利相关问题。